選購真空熔煉爐要注意哪些事項呢 　　為了能選購到合適的真空熔煉爐，在選購時需要注意下面幾點。 　　1、真空熔煉爐選擇要根據所要熱處理的零件化學成分和加熱溫度實現必須滿足金屬氧化物與一氧化碳平衡分解壓的關系并且要考慮一定的余地不要追求高的真空度真空度過高不僅會造成合金元素的揮發而且會造成設備的配置提高投資費用增加。 　　2、真空熔煉爐的冷卻有油冷和氣冷。目前主要以氣冷為主因為氣冷對熱處理零件無任何污染和不良影響油冷有表面微滲碳問題對質量有影響處理后零件表面潔凈不需要清洗所以在滿足冷卻速度的條件下一般以氣冷淬火作為***。氣冷的冷卻速度主要受氣壓、流速與氣流的形式和分布等因素的影響在進行選擇時要***考慮。一般情況氣壓高、流速大、冷卻速度快即冷卻速度是直接受到氣壓和流速的影響。另外氣冷時換熱器冷卻水的流量大小對于實際冷卻有明顯的影響。 　　3、購置真空熔煉爐要考慮工藝的通用性即淬火回火使用溫度范圍要寬。特別是處理高合金鋼回火溫度較高并且淬火后不出爐直接進行回火十分方便。 　　4、真空熔煉爐控制系統控制系統是真空加熱爐的核心部分確保其可靠性和完善性及其重要。有監控和故障顯示、記錄功能對于進口設備需要配備遠程監控功能這樣可以保證故障處理的及時性減少一定的維修費用。 　　5、其他密封性和真空系統配置的可靠性也是重要環節。真空燒結爐設備造型時不可從形式力求繁雜一定要在對比的基礎上力求可靠。

　　氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。